半導(dǎo)體物理與器件課后習(xí)題.doc

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1、習(xí)題11.1確定晶胞中的原子數(shù):(a)面心立方;(b)體心立方;(c)金剛石晶格。解:(a)面心立方:8個(gè)拐角原子×=1個(gè)原子6個(gè)面原子×=3個(gè)原子面心立方中共含4個(gè)原子(b)體心立方:8個(gè)拐角原子×=1個(gè)原子1個(gè)中心原子=1個(gè)原子體心立方中共含2個(gè)原子(c)金剛石晶格:8個(gè)拐角原子×=1個(gè)原子6個(gè)面原子×=3個(gè)原子4個(gè)中心原子=4個(gè)原子金剛是晶格中共含8個(gè)原子1.15計(jì)算如下平面硅原子的面密度:(a)(100),(b)(110),(c)(111)。解:(a):(100)平面面密度,通過把晶格原子數(shù)與表面面積相除得:面密度==(b):(110)表面面密度==(c):(11

2、1)表面面密度==1.19(a)如果硅中加入濃度為2×/的替位硼雜質(zhì)原子,計(jì)算單晶中硅原子替位的百分率。(b)對于濃度為/的硼雜質(zhì)原子,重新計(jì)算(a)解:(a):硅原子的體密度硅原子替位百分率=(b)同理:硅原子替位百分率=習(xí)題23.14圖3.35所示色E-k關(guān)系曲線表示了兩種可能的價(jià)帶。說明其中哪一種對應(yīng)的空穴有效質(zhì)量較大。為什么?解:圖中B曲線對應(yīng)的空穴有效質(zhì)量較大空穴的有效質(zhì)量:圖中曲線A的彎曲程度大于曲線B故3.16圖3.37所示為兩種不同半導(dǎo)體材料導(dǎo)帶中電子的E-k關(guān)系拋物線,試確定兩種電子的有效質(zhì)量(以自由電子質(zhì)量為單位)。解:E-k關(guān)系曲線k=0附近的圖形近

3、似于拋物線故有:由圖可知①對于A曲線有②對于B曲線有3.20硅的能帶圖3.23b所示導(dǎo)帶的最小能量出現(xiàn)在[100]方向上。最小值附近一維方向上的能量可以近似為其中是最小能量的k值。是確定時(shí)的粒子的有效質(zhì)量。解:導(dǎo)帶能量最小值附近一維方向上的能量當(dāng)時(shí);又時(shí)粒子的有效質(zhì)量為:3.24試確定T=300K時(shí)GaAs中之間的總量子態(tài)數(shù)量。解:根據(jù)當(dāng)T=300K時(shí)GaAs中之間總量子態(tài)數(shù)量:3.37某種材料T=300K時(shí)的費(fèi)米能級為6.25eV。該材料中的電子符合費(fèi)米-狄拉克函數(shù)。(a)求6.50eV處能級被電子占據(jù)的概率。(b)如果溫度上升為T=950K,重復(fù)前面的計(jì)算(假設(shè)不變)

4、.(c)如果比費(fèi)米能級低0.03eV處能級為空的概率是1%。此時(shí)溫度為多少?解:根據(jù)費(fèi)米-狄拉克分布函數(shù):(a)在6.50eV處能級被電子占據(jù)的概率:(b)溫度上升為950K時(shí)6.50eV能級被占據(jù)概率:(c)有題意可知比費(fèi)米能級低0.3eV處能級為空的概率為1%,即被占據(jù)的概率為99%故此時(shí)溫度為757K習(xí)題44.14假設(shè)某種半導(dǎo)體材料的導(dǎo)帶狀態(tài)密度為一常量K,且假設(shè)費(fèi)米-狄拉克統(tǒng)計(jì)分布和波爾茲曼近似有效。試推導(dǎo)熱平衡狀態(tài)下導(dǎo)帶內(nèi)電子濃度的表達(dá)式。解:令常數(shù),則:設(shè)則上式可寫為4.22(a)考慮T=300K時(shí)的硅。若求(b)假設(shè)(a)中的保持不變,求T=400K時(shí)的值(

5、c)求出(a)與(b)中的解:當(dāng)T=300K時(shí),硅的則(b)當(dāng)T=300K時(shí),硅中當(dāng)T=400K時(shí)則:(c)由(a)得:對(b)有:習(xí)題四(2)4.34已知T450K時(shí)的一塊硅樣品,摻雜了濃度為的硼和濃度為的砷。(a)該材料時(shí)n型半導(dǎo)體還是p型半導(dǎo)體?(b)計(jì)算電子的濃度和空穴的濃度。(c)計(jì)算已電離的雜質(zhì)濃度。解:T=450K時(shí)對于硅:(a)(b)空穴濃度:電子濃度:(c);450K時(shí)為強(qiáng)電離區(qū)故從而已電離的雜質(zhì)濃度為4.51(a)T300K時(shí)硅中摻雜了濃度為的磷原子,確定硅的費(fèi)米能級相對于本征費(fèi)米能級的位置。(b)假如加入的雜質(zhì)換為濃度為的硼原子重復(fù)(a).(c)分別

6、計(jì)算與中的電子子濃度。解:(a):即硅的費(fèi)米能級高于本征費(fèi)米能級0.2877ev處;(b)即硅的費(fèi)米能級低于本征費(fèi)米能級0.2877ev處;(c):(a)得:故:電子濃度(b)習(xí)題55.9在一塊特殊的半導(dǎo)體材料中,,,且這些參數(shù)不隨溫度變化。測得T=300K時(shí)的本征電導(dǎo)率為。求T=500K時(shí)的電導(dǎo)率?解:電導(dǎo)率T=300K時(shí)本征電導(dǎo)率為故即從而有5.29半導(dǎo)體中總電流恒定,由電子漂移電流和空穴擴(kuò)散電流組成。電子濃度恒為,空穴濃度為其中L=12,空穴擴(kuò)散系數(shù),電子遷移率,總電流密度。計(jì)算:(a)空穴擴(kuò)散電流密度隨x的變化關(guān)系;(b)電子電流密度隨x的變化關(guān)系;(c)電場強(qiáng)度

7、隨x的變化關(guān)系。解:(a)空穴擴(kuò)散電流密度(b)電子漂移電流密度(c)5.33熱平衡半導(dǎo)體(沒有電流)的施主雜質(zhì)濃度在范圍內(nèi)呈指數(shù)變化:其中為常數(shù)。(a)求范圍內(nèi)的電場分布函數(shù);(b)求處和處之間的電勢差。解:電場(b)處和處之間的電勢差

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