最新烤瓷牙的種類教學(xué)講義PPT.ppt

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1、烤瓷牙的種類烤瓷牙的種類1、鎳鉻合金烤瓷牙也叫賤金屬烤瓷牙，是目前國內(nèi)做的最多的烤瓷牙，鎳鉻合金耐腐蝕、價(jià)格低廉，醫(yī)用鎳鎘合金，主要由鎳、鉻及其他少量對人體無害的金屬元素組成；其中鎳77.95%、鉻12.60%。鎳元素的化學(xué)性質(zhì)相對來說不是特別穩(wěn)定，在復(fù)雜的口腔環(huán)境中，暴露在口腔中的金屬部分會(huì)慢慢的分解，并釋放黑色的氧化物，導(dǎo)致局部牙齦組織染色，部分比較敏感的人群會(huì)形成牙齦灰線，就是因?yàn)檫@類瓷冠中金屬離子容易析出，析出后口腔中有時(shí)還會(huì)出現(xiàn)淡淡的金屬異味，同時(shí)析出的金屬離子也會(huì)沉積于頸緣牙齦，使牙齦變黑，這

2、就是為什么鎳鉻合金烤瓷鑲復(fù)者的牙齒牙頸緣容易發(fā)黑、影響美觀的原因。2、鈦合金烤瓷牙純鈦合金的生物相容性比較好、韌性好、色澤好、強(qiáng)度也高、比重較輕，同時(shí)具有優(yōu)異的瓷牙結(jié)合強(qiáng)度，可延長瓷牙的使用壽命，而且在口腔里穩(wěn)定性比較高、不易氧化，這樣對牙齦的刺激性小，可以避免牙齦染色和牙齦出血等刺激癥狀的現(xiàn)象，它的價(jià)格介于非貴金屬和貴金屬之間，價(jià)格相對較普通烤瓷牙要貴一些。但是目前臨床上講的鈦合金烤瓷牙中鈦金屬含量其實(shí)并不高，牙科醫(yī)用鈦合絕大部分成分仍是鎳、鉻，鉬及其它金屬成分，其中鈦4~6%、鎳60~76%、鉻12~

3、21%。3、鍍金內(nèi)冠烤瓷牙所謂鍍金一般就是在普通賤金屬內(nèi)冠（鎳鉻或者鈷鉻）與人體組織相接觸的一側(cè)鍍一層純黃金，目的是為了降低賤金屬的游離和對口腔內(nèi)組織及牙體本身的刺激。黃金是比較理想的修復(fù)材料之一，與人體組織的相容性較好、刺激性小，一般不會(huì)出現(xiàn)齦緣發(fā)炎現(xiàn)象。但是黃金價(jià)格昂貴，所以出現(xiàn)了這種鍍金的折中方案，就是想辦法以低廉的價(jià)格達(dá)到和黃金烤瓷牙相仿或相似的效果。2烤瓷牙的種類在鎳鉻烤瓷的基礎(chǔ)上，在與牙體、牙齦接觸部位，比如烤瓷牙的內(nèi)冠表面，通過電鍍精密加工，使其內(nèi)冠表面增加一層含量99.9%、24K純黃金鍍

4、層，封閉普通金屬表面，杜絕有害金屬離子析出，以隔離賤金屬和人體的接觸，有效避免了對人體組織的侵害，從而杜絕牙齦發(fā)炎和頸緣發(fā)黑的發(fā)生幾率，防止牙齦黑線的不良反應(yīng)。鍍金的烤瓷牙是在賤金屬的表面鍍上一層純金，這層黃金畢竟是鍍上去的，而且鍍金層很薄，所以長期的效果不是很好。鍍金內(nèi)冠烤瓷牙價(jià)格比較適中，每單位收費(fèi)在600元~900元之間。4、鈷鉻內(nèi)冠烤瓷牙鈷鉻內(nèi)冠烤瓷牙：鈷鉻合金最早應(yīng)用于移植醫(yī)療，用做髖關(guān)節(jié)之用，這也是其生物相容性的一個(gè)標(biāo)志，沿用至今。早在1929年應(yīng)用于牙科醫(yī)療方面，最初用于可摘局部義齒修復(fù)。鈷

5、鉻合金：主要是針對Ni和鈹?shù)亩拘远兄频?，其鈷含量較鎳基合金高，一般為25％，還有如Cu、W、Nb、Si、Ru、Al和Mo等元素。因?yàn)槠浜捔枯^高，其耐腐蝕性能較鎳基合金好，并且金瓷結(jié)合良好，又因?yàn)楹休^多鉻，其熔點(diǎn)較高，合金與包埋料間存在一定反應(yīng)。烤瓷用鈷鉻合金，其彈性模量為213745Mpa，硬度為335維氏硬度。更高的彈性系數(shù)，舒適度高，在患者口內(nèi)不會(huì)出現(xiàn)合金變色現(xiàn)象。是比較理想的鎳鉻合金烤瓷牙替代品。價(jià)格800-1200左右。5、貴金屬烤瓷牙也叫金合金內(nèi)冠烤瓷牙，采用進(jìn)口的醫(yī)用金合金，其中金含量8

6、2%~90%左右，是目前最優(yōu)良的烤瓷修復(fù)體，黃金穩(wěn)定的金屬特性決定了它比較好的生物相容性。上面講過了黃金屬于惰性金屬，理化性能很穩(wěn)定，是比較理想的修復(fù)材料之一，與人體組織的相容性非常好，一般不會(huì)出現(xiàn)刺激癥狀引發(fā)牙齦緣的炎癥、和齦邊緣變黑問題。金合金烤瓷牙的色澤比較好，形態(tài)上也更接近正常的牙齒色澤，有著良好的美學(xué)效果，頸緣部分形態(tài)好，比較自然，更符合人類自然牙本質(zhì)顏色，同時(shí)金瓷結(jié)合牢固，耐腐蝕性比較強(qiáng)，是目前比較理想的修復(fù)烤瓷牙冠，也是醫(yī)生愿意向患者推薦的一種修復(fù)方式。目前每顆貴金屬烤瓷牙的費(fèi)用每單位在20

7、00元～4000元之間。3主要公式(2.5)?E為雜質(zhì)在SiO2中的擴(kuò)散激活能；D0為表觀擴(kuò)散系數(shù)。(2.8)xmin對應(yīng)用作掩蔽的SiO2層的最小厚度；t為雜質(zhì)在硅中達(dá)到擴(kuò)散深度所需時(shí)間.x=0.44x0氧化層厚度x0與消耗掉的硅厚度x的關(guān)系(2.11a)7x02+Ax0=B（t+?）(2.28)SiO2的生長厚度與時(shí)間的關(guān)系式(2.29)(2.30)(2.31)(2.32)線性氧化規(guī)律(2.33)(2.34)拋物型氧化規(guī)律x02=B(t+?)(2.35)8習(xí)題參考答案1.計(jì)算在120分鐘內(nèi)，920℃水

8、汽氧化過程中生長的二氧化硅層的厚度。假定硅片在初始狀態(tài)時(shí)已有1000?的氧化層，參數(shù)從下表中查找。硅的氧化系數(shù)9按照表中數(shù)據(jù)，在920℃下，A=0.5um，B=0.203um2/h，將值代入式（2.31）得由式（2.32）得102.在某個(gè)雙極工藝中，為了隔離晶體管，需要生長1μm厚度的場氧化層。由于考慮到雜質(zhì)擴(kuò)散和堆垛層錯(cuò)的形成，氧化必須在1050℃下進(jìn)行。如果工藝是在一個(gè)大氣壓下的濕氧氣氛中進(jìn)行，計(jì)算所需的氧化時(shí)間。假定拋物